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场发射电镜

作者:        发布于:2013-10-10

  型号:ULTRA PLUS-43-13

  生产国别厂家:德国蔡司光学仪器  

  1. 电子光学系统

  原理:场发射扫描电镜是利用聚焦电子束与样品表面作用产生的二次电子、背散射电子等物理信号得到表面形貌图像以及样品相关信息。该电镜适用于分析和观察样品表面及近表面形貌及结构;其较高的电子束流,更适合与X射线能谱仪及背散射电子衍射仪相结合,对样品的组成、表面织构等做出分析。

  主要技术指标:

  二次电子像分辨率:1.0nm(15kV),1.9nm(1kV)

  电子枪:LaB6热场发射电子枪

  加速电压:0.1 ~ 30kV

  束流范围:12-12~10-7 A

  图像放大倍数:12~1000,000×(二次电子像),100~1000.000×(背散射电子像)


  2. X射线能谱系统   

  X射线显微分析系统(能谱仪)(EDS):作为电子探针的附件配置在ULTRA PLUS-43-13型电子探针上使用

  原理:用细聚焦电子束入射样品表面,激发出样品微区(微米级)元素的特征X射线,分析特征X射线的或特征能量即可知道微区中所含元素的种类(定性分析), 分析X射线的强度,则可知道微区中对应元素含量的多少(半定量分析)。

  型号:X-Max 50型电制冷能谱仪 

  生产国别厂家: 英国牛津仪器公司 

  主要技术指标:分辨率:优于127eV;MK峰背比:20,000:1; 稳定性:1,000cps~100,000cps时,谱峰漂移<1eV,分辨率变化<1eV,48小时内谱峰漂移<1.5eV(Mn Kα)

  元素探测范围:探测到低至铍(包括铍)的所有元素

  主要用途:元素的定性分析、线、面分布等,X-Max 50型电制冷能谱仪无需添加液氮,方便快捷,具有图像及成分图的能谱分析系统,具有分辨率高等特点。可对固体材料的表面涂层、镀层进行分析,进行材料表面微区成分的定性和半定量分析,在材料表面做元素的面、线、点分布分析。


  3. 电子背散射衍射图像采集系统

  电子背散射衍射仪(EBSD):作为附件配置在ULTRA PLUS-43-13场发射扫描电镜上,为分析样品晶粒取向分布、织构等信息提供支持。

  原理:基于扫描电镜中电子束在倾斜样品表面激发出并形成的衍射菊池带的分析,从而得到晶体结构、取向及相关信息。

  型号:HKL Max

  生产国别厂家:英国牛津仪器公司

  主要技术指标:EBSD花样分辨率达640×480像素;高灵敏度(加速电压>3kV,束流>500pA即可得到明显衍射花样);最大在线标定解析速度≥640点/秒 

 

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