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XPS技术原理和应用介绍

作者:        发布于:2016-06-03

  报告简介:

  X射线光电子能谱(XPS) 技术是一种重要的表面分析手段。该技术基于光电效应,采用X射线激发被测样品表面纳米尺度内的原子发射光电子,通过系统探测到所发射光电子的动能等信息,进而实现样品表面的元素种类及化合态的定性和定量的分析。XPS的分析范围广泛,可对从Li到U范围内的元素进行研究,因而不仅被广泛地应用于化学分析、材料开发应用研究、物理理论探讨等学术领域,还被广泛地应用于机械加工、印刷电路技术、镀膜材料工艺控制、纳米功能材料开发等工业领域。本次报告主要从技术原理和基础出发,和大家分享赛默飞最新的行业应用案例,包括:锂电池、催化剂、微电子器件、玻璃、半导体等行业。

  演讲者简历:

  葛青亲 博士,毕业于复旦大学物理系。博士期间从事复杂量子材料的光电子能谱研究。使用基于同步辐射与激光的电子能谱系统,研究对象涵盖高温超导,铁基超导,Mott绝缘体等关联体系,及人工异质界面和有机功能分子材料等低维体系的电子结构研究。拥有丰富的电子能谱系统操作、搭建和光电子能谱数据处理经验,博士期间多次赴美国、日本、德国、意大利等同步辐射中心进行交流合作,在Nature Physics、Physical Review X等国际一流杂志发表论文10余篇。毕业后加入赛默飞世尔科技(中国)有限公司,担任应用专家一职,为客户提供现场技术支持及应用解决方案。

  报告时间:2016年6月6日   14:30

  报告地点:材料研究与测试中心5楼会议室

   

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